噴砂機(jī)VD 是通過氣相物質(zhì)的化學(xué)反應(yīng)在基材表面沉積固態(tài)薄膜的一種工藝方法,。CVD 技術(shù)發(fā)展較早,，在上 世紀(jì) 60 年代已應(yīng)用于硬質(zhì)合金刀具的涂層處理，并且在硬質(zhì)合金可轉(zhuǎn)位刀具上得到了較為廣泛的應(yīng)用,。在 CVD 工藝中,，氣相沉積所需要金屬源的制備相對容易，可進(jìn)行 TiBN,、TiB2,、TiN、TiC,、TiCN,、 、Al2O3 等單層及多元多層復(fù)合涂層,，其涂層與基體結(jié)合強(qiáng)度較高,，薄膜的厚度達(dá) 7～9μ m，CVD 涂層具有較好的 耐磨性,。據(jù)統(tǒng)計,，美國在八十年代中后期有 85%的硬質(zhì)合金工具采用了涂層處理，其中 CVD 涂層占 99%,； 在九十年代的中期,，CVD 涂層硬質(zhì)合金刀具仍占到了 80%以上。CVD 涂層技術(shù)擁有許多的優(yōu)點(diǎn)：1.涂層源 的制備比較容易,。2.鍍膜的均勻性比較好,。3.成膜粒子的能量非常低,，因此鍍膜的內(nèi)應(yīng)力很低。4.能夠得到 比較厚的鍍膜,。5.鍍膜的耐磨性非常好,。但是 CVD 涂層技術(shù)也有一些缺陷：

1 噴砂機(jī)工藝的處理溫度較高，刀具 材料抗彎強(qiáng)度會產(chǎn)生下降,。2.CVD 涂層技術(shù)排放的廢氣可造成嚴(yán)重的環(huán)境污染,。因此，從九十年代中期以 來,，高溫 CVD 涂層技術(shù)的發(fā)展,、應(yīng)用受到了制約。八十年代末期,，Kruup Widia 研發(fā)的低溫化學(xué)氣相沉積 技術(shù)（PCVD）已經(jīng)可以實現(xiàn)應(yīng)用,，該技術(shù)的工藝處理溫度已下降至 450℃至 650℃，能夠有效的抑制η 相 產(chǎn)生,，能夠進(jìn)行 TiN、TiCN,、TiC 等金屬涂層,，應(yīng)用于螺紋刀具、銑刀,、鉆頭等,，但是 PCVD 技術(shù)在刀具 涂層領(lǐng)域內(nèi)的應(yīng)用目前仍然不是十分廣泛。 引起 CVD 涂層技術(shù)出現(xiàn)實質(zhì)性突破的是 80 年代末期產(chǎn)生的 MT—CVD 技術(shù)（中溫化學(xué)氣相沉積技術(shù)） ,， 該技術(shù)的機(jī)理與高溫 CVD 涂層技術(shù)是相同的,，但它的涂覆溫度僅為 700℃到 900℃，而且正向著更低的溫 度和更高的真空度方向發(fā)展,。MT—CVD 涂層技術(shù)突出的優(yōu)點(diǎn)有沉積的速度快,、涂層的厚度均勻、涂層的 附著力較強(qiáng),、內(nèi)部的殘余應(yīng)力較小,。但 MT—CVD 涂層技術(shù)的首要缺點(diǎn)是產(chǎn)生嚴(yán)重的環(huán)境污染問題，其次,， 它的涂層內(nèi)部產(chǎn)生拉應(yīng)力,，容易產(chǎn)生裂紋。新型的 MT-CVD 技術(shù)是將含 C,、N 的有機(jī)物乙腈（CH3CN）為 主要的反應(yīng)氣體混合 TiCL4,、H2、N2 在 700℃到 900℃溫度下產(chǎn)生分解,、發(fā)生化學(xué)反應(yīng),，產(chǎn)生 TiCN 的一 種新的方法,，該方法得到的涂層為致密纖維狀結(jié)晶形態(tài)，涂層的厚度可達(dá)到 8-10μ m,。該涂層結(jié)構(gòu)為為致 密纖維狀結(jié)晶,， 因此擁有很高的耐磨損性， 很高的抗熱震性和韌性,。 再通過高溫化學(xué)氣相沉積技術(shù) （HT-CVD 技術(shù)）在表層鍍層上沉積 Al2O3 和 TiN 等抗氧化性能好,、高溫性能好、與加工材料的親和力較小的材料,。 高溫化學(xué)氣相沉積技術(shù)適用于高速度,、高溫度、大負(fù)荷的干式切削條件,，刀具的壽命比一般的涂層刀片延 長了一倍,。 我國 CVD 涂層技術(shù)的研究開始于七十年代初， 由于該項技術(shù)的專用性強(qiáng),， 并于八十年代中期達(dá)到實用化,， 并與國際 噴砂機(jī)CVD 工藝技術(shù)水平相當(dāng)；隨后十多年里國內(nèi)和國外的發(fā)展類似,，比較緩慢,；我國 PCVD 技術(shù)的 研究開始于九十年代初，該技術(shù)目前主要用于模具涂層,，在刀具領(lǐng)域內(nèi)的應(yīng)用,，還不是十分廣泛。從總體 上講,，我國的 CVD 技術(shù)與國際先進(jìn)水平保持同步,。